ECM 폴리싱 마스크 5매 – 부드러운 각질 제거, 유분 조절 및 보습, 맑고 투명한 피부

제품 주요 특징

• 마스크는 "인피 HA-안정화 인자"를 핵심으로 하며, 이 성분은 아세틸화 HA, 모유 올리고당, 제비집산, 미세 HA 및 나노 HA 등으로 구성되어 표피 세포 미세 환경 및 영양 순환을 중심으로 시너지 효과를 내도록 설계되었습니다. 피부 장벽 복구 및 표피 재생을 촉진하는 것을 목표로 합니다.

• "2효소 1펩타이드"(광채 펩타이드, 식물 각질 효소 등 포함)와 함께 생물 효소 분해 방식으로 부드럽게 오래된 각질을 제거하여 물리적 스크럽보다 부드럽게 "광택" 나는 피부결을 완성합니다.

• 오래된 각질 대사 촉진과 핵심 성분의 시너지 효과를 통해 거칠고 칙칙한 피부의 하위 건강 문제를 개선하고, 효과적으로 피부톤을 밝게 하고 피부 광택을 향상시킵니다.

• 일반 각질 제거 마스크와 달리, 이 제품은 "ECM(세포외 기질) 기저막 영양 관리"를 강조하며, IV형 콜라겐, 라미닌 등 기저막 관련 지표에 주목합니다.

• 효과적인 관리 제품으로, 단 15분 만에 "내인성 영양 관리 + 부드러운 광택"의 피부 개선 과정을 완료할 수 있습니다. 메이크업 전 응급 처치 또는 주기적인 관리로 적합하며, 빠르게 피부를 부드럽고 깨끗하게 회복시킵니다.